Исследование особенностей тонкой структуры ТПО и магнитных полей в приосевой области установки PF-1000

Статья в журнале Физика плазмы. 2014. Т.40. №8. С.721-737.В работе представлены результаты измерений магнитных полей в области пинчевания плазмы при сжатии токово-плазменной оболочки (ТПО) из дейтерия на установке плазменный фокус PF-1000. Исследована «тонкая» структура ТПО (уданая волна-магнитный поршень) и ее изменение по мере сжатия плазмы к оси установки при помощи магнитозондовой методики и лазерной интерферометрии. Проведено сравнение радиальных распределений плотности плазмы и тока внутри ТПО. Показано, что в области ударной волны электронная концентрация сжатого вещества порядка ~10е18 см^-3, в то время как почти весь ток в ТПО скинирован в области магнитного поршня - плазменного слоя с электронной концентрацией не более 10e15 см-3. Зарегистрирована эффективная транспортировка тока плазменной оболочкой в приосевую область установки в разрядах с высоким нейтронным выходом (Yn 10e11 нейтрон/имп.). Показано, что полный выход нейтронов хорошо описывается следующей функциональной зависимостью: Yn ~(1.5-3)x10^10Ip^4, где Ip – ток пинча внутри области r= 13 мм.