Мощный ионный пучок и его промышленное применение

Литературный перевод. High intensity pulsed ion beam sources and their industrial applications. Elseiver. Surface and Coatings Technology 114(1999) 206–212В настоящей работе представлено исследование по промышленному применению мощных ионных пучков (МИП) выполненное в Институте Ядерной Физики Томского Политехнического Университета (NPI TPU) и Научном Промышленном Предприятии ‘Linetron’, Н.-Новгород. Наиболее интересные результаты были получены для:$ модификации поверхности МИП инструмента, для повышения его износостойкости;$ осаждения тонких металлических, композитных и алмазоподобных углеродных пленок (АПП);$ короткоимпульсной имплантации полупроводников.Показано что ионные пучки с низкой плотностью энергии (106–109 Вт/см2)имеют перспективы в промышленном применении. В статье представлено короткое описание взаимодействия МИП-твердое тело и основные параметры МИП используемые в исследовании и их влияние на свойства обрабатываемых образцов.