Main Технологическое проектирование интегральных схем. Программа SSuprem 4

Технологическое проектирование интегральных схем. Программа SSuprem 4

,
5.0 / 5.0
0 comments
Учебное пособие для курсов лекций и лабораторных работ по дисциплине Расчет и проектирование элементов интегральных схем и полупроводниковых приборов, Основы САПР в микроэлектронике, Моделирование технологических процессов микроэлектроники для студентов специальности 41 01 02 Микро- и наноэлектронные технологии и системы,41 01 03 Квантовые информационные системы всех форм обучения. - Мн.: БГУИР, 2004.- 102 c.: ил.ISBN 985-444-556-9В пособии приведено описание физических моделей, используемых в программном комплексе ATHENA фирмы Silvaco для компьютерного моделирования, проектирования и оптимизации технологических процессов формирования приборов микроэлектроники, а также технологического маршрута изготовления интегральной схемы в целом.СодержаниеВведениеМодели диффузии легирующих примесейМодели диффузии легирующих примесей в кремнииМатематическое описание диффузии примесейОбщие уравненияМодель диффузии ФермиМодель сегрегации примесейДвухмерная модель диффузииМодель диффузии связанных пар примесь-дефектДругие модели диффузии и их расширенияМодель диффузии легирующих примесей в поликремнииДва потока диффузии примесей в поликремнииМодель роста зерна поликремнияМодели окисления кремнияМатематическое описание процесса окисления кремнияЧисленная реализация модели окисления кремнияМодель COMPRESSМодель VISCOUSЛинейная константа скорости окисленияОриентационная зависимостьЗависимость толщины оксида кремния от давленияЗависимость толщины оксида кремния от содержания хлораЗависимость толщины оксида кремния от степени легированияПараболическая константа скорости окисленияЗависимость толщины оксида кремния от давленияЗависимость толщины оксида кремния от содержания хлораСмешанная окислительная средаАналитические модели окисленияМодель формирования силицидовМодели ионной имплантацииАналитические модели имплантацииГауссово распределение ионно-имплантированных примесейРаспределение Пирсона ионно-имплантированных примесейМоделирование имплантации в многослойную структуруПостроение двухмерных профилейМоделирование имплантации методом Монте-КарлоЛитература
Request Code : ZLIBIO1925915
Categories:
Year:
2022
Language:
Russian

Comments of this book

There are no comments yet.