Элионная технология в микро - и наноиндустрии

Курс лекций. - Москва, МИСиС, 2008. - 156 с.В учебном пособии рассматриваются закономерности изменения параметров тонкопленочных гетерокомпозиций материалов электронной техники при воздействии электронных, ионных потоков и низкотемпературной плазмы для микро- и наноразмерных устройств с улучшенными характеристиками. Цель данного пособия - формирование современных представлений и достижений в области микро- и наноиндустрии.Учитывая, что в рассматриваемых процессах основную роль играют электроны и ионы, принято для краткости называть технологию элионной.Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии».Предназначено для подготовки специалистов по направлению 210100 «Электроника и микроэлектроника» и может быть полезно для обучающихся по направлению 210600 «Нанотехнология», 210601 «Нанотехнология в электронике» и по специальности 210602 «Наноматериалы».Предисловие1 Ионно-плазменное осаждение слоевСтимулированное плазмой осаждение пленок оксидовПлазмохимическое осаждение пленок нитридовЭлектроискровое нанесение слоев2 Применение ионной имплантацииОсобенности ионной технологииПрименение ионного легирования в планарной технологииИмплантация примеси в многослойные гетерокомпозиции3 Особенности применения электронных процессов в электроникеПерспективы электронной технологии в электроникеТемпературное поле в зоне обработки электронами4 Литографические методы в микро- и наноэлектроникеВозможности оптической литографииЭлектронно-лучевая литографияГолографическая и рентгеновская литографияИонно-лучевая литографияОграничения процессов в литографииПримеры получения устройств микро- и наноиндустрииЗаключениеБиблиографический список