Main Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум

Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум

Name: Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум
Rating: 5.0 (4 reviews)

Сычев С.А., Серопян Г.М., Позыгун И.С., Семочкин В.В.

5.0 / 5.0

0 comments

Материал соответствует Государственному образовательному стандарту по специальности 010400 ''Физика''. Даются представления о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с использованием метода сухого травления и, в частности, микроструктур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверхпроводящей криоэлектроники. Может быть использован студентами других специальностей

Request Code : ZLIBIO375938

Categories:

Year:

2004

Publisher:

Изд-во ОмГУ

Language:

Russian

Pages: